技術資源
準分子激光高壓電源氣體放電控制的技術突破與應用演進
準分子激光器（如ArF、KrF等）作為深紫外波段的核心光源，其性能高度依賴于高壓電源對氣體放電的精確控制。氣體放電的穩定性、效率及壽命直
光刻機高壓電源諧波諧振防護的關鍵技術研究
光刻機作為半導體制造的核心裝備，其高壓電源的穩定性直接決定曝光精度和芯片良率。高壓電源為電子束偏轉系統、離子光學單元提供能量，而負
離子注入高壓電源故障預測算法的應用與進展
離子注入是半導體制造的核心工藝，其高壓電源的穩定性直接決定芯片良率。然而，高壓電源長期處于高負載、強電場環境，易受電磁干擾、元器件
靜電卡盤高壓電源接觸電阻監測的關鍵技術及應用
在半導體制造工藝中，靜電卡盤（ESC）通過高壓電場吸附晶圓，其核心驅動部件——高壓電源的穩定性直接決定晶圓平整度與溫度均勻性。而高壓
電鏡高壓電源分布式供電架構的技術演進與應用價值
電子顯微鏡（SEM TEM）的性能直接依賴于高壓電源的穩定性。電鏡的電子槍需產生高能電子束（通常為1–300 kV）
光刻機高壓電源自適應諧振補償技術研究
引言光刻機作為半導體制造的核心裝備，其高壓電源的性能直接影響曝光精度與芯片良率。高壓電源需為電子束偏轉系統、離子光學單元等關鍵部件
離子注入高壓電源的數字孿生監測技術：突破精度與可靠性的新范式
在半導體制造、核工業及材料表面改性等領域，離子注入技術是實現材料性能精準調控的核心工藝。高壓電源作為離子注入設備的心臟，其輸出穩定
靜電卡盤高壓電源瞬態過沖抑制技術研究
在半導體制造、精密儀器加工等領域，靜電卡盤（ESC）通過高壓靜電吸附實現晶圓或工件的無機械接觸固定，其核心驅動元件——高壓電源的穩定
電鏡高壓電源超低漂移設計的關鍵技術與應用
在電子顯微鏡（電鏡）系統中，高壓電源的穩定性直接決定了成像質量。高壓電源的微小漂移（如電壓波動、紋波或溫度漂移）會導致電子束能量偏