技術資源
高壓電源阻抗匹配優化在蝕刻設備中的關鍵技術與應用
在半導體制造領域，蝕刻設備的高壓電源性能直接決定了工藝精度與設備穩定性。高壓電源的輸出阻抗與等離子體腔室負載阻抗的匹配程度，是影響
離子注入高壓電源智能均流控制的技術突破與應用
摘要離子注入是半導體制造中的核心工藝，其精度直接決定器件的電學特性與可靠性。高壓電源作為離子注入系統的動力心臟，其輸出穩定性對雜質
靜電卡盤高壓電源諧振抑制技術：原理與創新方案
在半導體制造工藝中，靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）是晶圓蝕刻、沉積等關鍵工序的核心夾具，其穩定性直接決定工藝精度。高壓電源
離子注入高壓電源的輕載高效模式：技術突破與應用價值
在半導體制造、新材料改性等領域，離子注入工藝常面臨輕載工況（如局部摻雜、微區修整或科研級小劑量注入），傳統高壓電源在此類場景下存在
靜電卡盤高壓電源絕緣老化監測：技術要點與應用價值
在半導體制造、電子顯微鏡等精密設備中，靜電卡盤（ESC）通過高壓電源產生的靜電場吸附工件，其絕緣性能的穩定性直接決定工藝精度與設備安
電鏡高壓電源的快速關斷保護技術：精密設備的“安全閘門”
在電子顯微鏡（電鏡）等高端科研設備中，高壓電源的穩定性直接決定了成像質量與設備壽命。然而，電鏡工作時常因真空腔體內的雜質或微放電現
離子注入高壓電源浪涌抑制方法
在半導體制造工藝中，離子注入機的高壓電源系統需在毫秒級時間內實現千伏級電壓的快速升壓，這一過程易因容性負載（如離子源與引出電極）產
靜電卡盤高壓電源抗電弧設計的核心技術剖析
一、電弧產生機理與危害在半導體工藝中，靜電卡盤（ESC）通過高壓電源（典型參數：±5kV 10mA）產生靜電場吸附晶圓。然而，在真空或
電鏡高壓電源的高精度反饋調節技術研究與應用
電鏡成像質量直接依賴于高壓電源的穩定性。當束流電壓波動超過±0 01%時，可能導致圖像分辨率顯著下降。因此，高精度反饋調節系統成