技術資源
蝕刻設備高壓電源諧波抑制技術研究與應用
一、諧波成因與危害蝕刻設備的高壓電源在工作時需將工頻交流電轉換為高頻高壓電能，其核心的整流與逆變電路（如IGBT、SiC器件）在開關過程
準分子激光高壓電源模塊化研究
準分子激光器作為深紫外波段的核心光源，在光刻、醫療和精密加工等領域具有不可替代的作用。其性能高度依賴高壓電源的穩定性與響應速度。傳
高壓驅動技術在深紫外光刻光源中的核心應用與挑戰
光刻機作為半導體制造的核心設備，其性能直接取決于光源系統的精度與穩定性。深紫外（DUV）光源（波長193nm 248nm）是目前先進芯片制程的關
離子注入高壓電源瞬態保護設計
離子注入機是半導體制造的關鍵設備，其高壓電源需提供數萬至數百萬伏特的穩定電壓，以精確控制雜質離子注入晶片的深度和濃度。然而，高壓電
靜電卡盤高壓絕緣材料的關鍵技術研究
一、高壓絕緣材料的核心要求電學性能高介電強度：絕緣層需承受1 5–5 kV mm的高壓電場，防止擊穿失效。例如，氮化鋁（AlN）陶瓷的介
電鏡高壓電源精密控制技術的突破與挑戰
電子顯微鏡（EM）作為納米級觀測的核心工具，其分辨率直接依賴高壓電源的穩定性。高壓電源為電子槍提供加速電壓（通常為幾千伏至幾百千伏）
高頻高壓電源在半導體蝕刻設備中的關鍵設計與應用
一、高頻高壓電源的技術原理高頻高壓電源是蝕刻設備的核心部件，其設計基于高頻開關技術與諧振轉換原理：電能轉換機制：通過功率開關器件（
準分子激光高壓脈沖調制技術：精密能量控制的核心突破
一、技術原理與核心挑戰準分子激光以惰性氣體和鹵素氣體的受激二聚體為增益介質，其躍遷發生在激發態（束縛態）與基態（自由態）之間，屬于
光刻機高壓電源的EMI抑制技術研究
引言光刻機作為半導體制造的核心設備，其高壓電源（通常需提供數千伏電壓及毫安級電流）的穩定性直接影響曝光精度。然而，高壓電源在開關過