技術資源
離子注入高壓電源多級濾波網絡設計
離子注入技術是半導體制造中的關鍵工藝，其核心設備依賴超高壓直流電源（通常達數百千伏）提供離子加速能量。此類電源的穩定性直接決定注入
靜電卡盤高壓電源電弧檢測算法優化
靜電卡盤作為半導體制造、精密儀器組裝的核心部件，依賴高壓電源產生的靜電場實現工件的非接觸式固定。然而，高壓環境易引發電弧故障，輕則
離子注入高壓電源的自適應脈沖調制技術：精密制造的突破性革新
在半導體制造、材料表面改性及先進醫療設備等領域，離子注入技術是調控材料性能的核心工藝。其核心挑戰在于如何精確控制離子的能量、深度和
高壓電源多參數協同控制在半導體蝕刻設備中的應用研究
引言在半導體制造中，等離子體蝕刻是決定器件精度的核心工藝之一。蝕刻設備的高壓電源系統直接控制等離子體的密度、能量分布及反應活性，其
準分子激光高壓電源氣體純度影響分析
準分子激光器（如ArF、KrF、XeCl等）依靠高壓電源驅動氣體放電，產生高能紫外激光束，廣泛應用于半導體光刻、醫療手術、精密加工等領域。氣
高精度光刻機高壓電源的瞬態諧波消除技術
半導體制造的關鍵挑戰與創新解決方案在極紫外（EUV）光刻技術主導的半導體制造中，高壓電源的瞬態諧波控制直接決定光刻精度與良率。瞬態諧
離子注入高壓電源的智能梯度調節技術研究與應用
離子注入作為半導體制造的核心工藝之一，其精度直接影響器件的電學性能和良率。傳統高壓電源在離子注入過程中存在兩大痛點：一是注入能量的
靜電卡盤高壓電源表面電荷監測技術及其在半導體制造中的關鍵作用
1 靜電卡盤的工作原理與表面電荷的生成機制靜電卡盤（ESC）通過高壓電源在電極上施加直流電壓（通常為500–4000 V），使晶片與介電
準分子激光高壓電源放電延遲校正技術研究
摘要準分子激光器在半導體光刻、眼科手術等領域具有不可替代的作用，其輸出脈沖的時序精度直接影響工藝質量。高壓電源作為驅動核心，放電延