技術資源
蝕刻設備高壓電源能量回收技術：原理、設計與應用
一、技術背景與意義蝕刻設備在半導體、微電子及材料加工領域應用廣泛，但其高壓電源系統能耗巨大。傳統蝕刻過程中，約60%的能量轉化為廢熱
準分子激光高壓電源重復頻率控制關鍵技術研究
一、高重復頻率下的技術挑戰準分子激光器（如ArF、KrF等）在半導體光刻、精密微加工等領域需實現kHz級高重復頻率運行（通常達4–6kHz
靜電卡盤高壓電源電磁屏蔽設計
• 高壓電源設計挑戰：分析靜電卡盤電源系統的核心需求，包括電壓穩定性、快速響應和故障冗余設計，使用表格對比不同技術方案。•
電鏡高壓電源低噪聲拓撲優化
電子顯微鏡（電鏡）的分辨率直接依賴于高壓電源的穩定性。電源噪聲會導致電子束軌跡偏移，造成圖像模糊、細節丟失甚至數據失真。因此，高壓
蝕刻設備高壓電源故障自恢復技術的創新與應用
在半導體制造工藝中，蝕刻設備依賴高壓電源（通常達千伏級）驅動等離子體生成，以實現納米級精度的晶圓蝕刻。然而，高壓電源在運行中易因打
準分子激光高壓電源脈沖整形研究
1 引言準分子激光器以其短波長（紫外至深紫外波段）、高功率密度和納秒級脈沖輸出能力，在光刻、材料加工、醫療及慣性約束聚變（ICF）等領
光刻機高壓電源多級穩壓方案的技術解析
光刻機作為半導體制造的核心裝備，其精度直接決定芯片的納米級結構。在光刻工藝中，高壓電源為深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源提供驅動能
離子注入高壓電源效率優化的多維路徑與技術演進
離子注入技術是半導體制造的核心工藝，其精度直接影響器件的電學特性與可靠性。高壓電源作為離子注入系統的動力心臟，其效率優化成為突破半
靜電卡盤高壓電源的智能診斷技術：精準監控與故障預判的革命
靜電卡盤作為半導體制造、精密儀器組裝等領域的關鍵設備，其穩定運行直接關系到工藝精度與良品率。高壓電源作為靜電卡盤的核心動力源，其工