技術資源
光刻機高壓電源電磁兼容強化方案
光刻機作為半導體制造的核心設備，其高壓電源的電磁兼容性（EMC）直接影響曝光精度與系統穩定性。高壓電源在工作時產生的瞬態干擾、諧波噪
離子注入高壓電源的動態負載補償技術：精密制造的核心突破
在半導體制造中，離子注入是定義器件電學特性的關鍵工藝，其精度直接影響芯片的性能與良率。離子注入機的高壓電源系統需為離子加速提供穩定
靜電卡盤高壓電源介質損耗抑制技術研究
在半導體制造工藝中，靜電卡盤（ESC）通過高壓電場吸附晶圓，其電源系統的性能直接影響工藝精度與穩定性。介質損耗作為高壓電源的核心問題
高壓電源的疾速脈搏：電鏡高壓電源亞毫秒級響應技術剖析
電子顯微鏡（EM）對物質微觀世界的揭示能力，其核心驅動力之一在于高壓電源（High Voltage Power Supply, HVPS）的卓越表現。傳統HVPS
光刻機高壓電源的多級隔離設計
引言光刻機作為半導體制造的核心設備，其高壓電源系統的穩定性直接決定曝光精度與芯片良率。尤其在極紫外（EUV）光刻機中，激光等離子體光
離子注入高壓電源梯度升壓技術的創新與應用
1 技術原理與核心機制離子注入高壓電源梯度升壓技術通過動態調節加速電壓（范圍覆蓋kV至MeV），實現離子在材料內部濃度的縱向梯度分布。
靜電卡盤高壓電源擊穿防護機制研究
靜電卡盤作為半導體制造、精密加工等領域的關鍵部件，依賴高壓電源提供靜電場以實現工件的無損固定。然而，高壓環境下的介質擊穿問題可能引
離子注入高壓電源能效比提升策略
離子注入技術是半導體制造的核心工藝之一，其高壓電源系統的能效比直接影響芯片生產的能耗與經濟性。本文從材料創新、系統控制優化及熱管理
靜電卡盤高壓電源多物理場耦合仿真研究
摘要：隨著半導體制造工藝向亞納米精度發展，靜電卡盤（ESC）的電壓穩定性與熱管理性能對晶圓形變控制至關重要。本文基于多物理場聯合仿真