技術資源
靜電卡盤高壓電源多區域獨立控制的技術演進與應用價值
在半導體制造向更高精度、更大晶圓尺寸演進的過程中，靜電卡盤（ESC）作為晶圓固定與溫控的核心裝置，其性能直接影響刻蝕、薄膜沉積等工藝
電鏡高壓電源亞納米級穩定技術
電子顯微鏡（電鏡）的分辨率已突破亞納米級（<0 2納米），成為材料科學、生命科學等領域解析物質原子結構的關鍵工具。這一成就的基石是高壓
高壓電源工藝參數耦合在蝕刻設備中的核心作用
在半導體制造中，等離子體刻蝕是納米級圖形轉移的關鍵工藝，其精度直接決定器件的性能與良率。高壓電源作為等離子體的能量來源，通過精準調
準分子激光高壓電源電極壽命延長的關鍵技術路徑
準分子激光器作為深紫外波段的核心光源，在半導體光刻、醫療消融等領域不可替代。其高壓電源電極在含氟等離子體的高頻放電環境中面臨嚴重腐
光刻機高壓電源故障快速定位技術研究
光刻機作為半導體制造的核心裝備，其高壓電源系統（輸出范圍通常達數萬至數百萬伏特）的穩定性直接影響晶圓曝光精度。該電源長期處于高負載
電鏡高壓電源超低EMI屏蔽結構的技術解析
電子顯微鏡（電鏡）的分辨率與成像質量高度依賴其高壓電源的穩定性。外部電磁干擾（EMI）會導致電子束偏轉、圖像模糊甚至數據失真。因此，
蝕刻設備高壓電源動態偏置調節：精密控制的核心突破
在半導體制造中，等離子體刻蝕工藝的納米級圖形轉移精度直接決定器件的性能和良率。高壓電源作為等離子體的能量來源，其動態偏置調節能力成
準分子激光高壓電源放電通道優化的關鍵技術路徑
準分子激光器作為深紫外波段的高功率光源，在光刻、微加工等領域具有不可替代的地位。其性能核心依賴于高壓電源放電通道的穩定性與效率。放
光刻機高壓電源多電平轉換技術的應用突破
光刻機作為集成電路制造的核心設備，其曝光精度直接依賴于高壓電源的穩定性與純凈度。傳統兩電平電源方案存在輸出電壓紋波大、動態響應慢、