技術資源
光刻機高壓電源的自適應諧振頻率控制技術
在高端光刻機中，高壓電源的穩定性直接決定了曝光精度和系統可靠性。隨著光刻技術向更小線寬（如亞微米級）發展，高壓電源需在數千伏級電壓
離子注入高壓電源多脈沖序列控制的技術突破與應用展望
離子注入技術是半導體制造、材料表面改性和精密器件加工的核心工藝之一。高壓電源作為離子注入設備的心臟，其性能直接影響注入離子的能量精
靜電卡盤高壓電源表面電荷動態平衡機制與技術挑戰
一、靜電卡盤的工作原理與電荷動態平衡基礎靜電卡盤（ESC）是半導體制造中的核心部件，通過高壓電源在電極層加載直流或射頻電壓，使絕緣介
準分子激光高壓電源電極腐蝕防護：材料挑戰與技術創新
準分子激光高壓電源是深紫外光刻、精密材料加工等高端裝備的核心部件，其電極在高壓放電過程中面臨復雜的腐蝕問題。腐蝕不僅降低電極導電性
光刻機高壓電源的粒子干擾屏蔽技術：挑戰與創新
在半導體制造中，光刻機是實現納米級電路圖案的核心設備，其高壓電源的穩定性直接決定曝光精度與良率。然而，高能粒子（如宇宙射線、放射性
離子注入高壓電源的智能動態均壓技術
在半導體制造、光學鍍膜和材料表面改性等領域，離子注入技術依賴高壓電源提供穩定的數十千伏級電場，以精確控制離子束的能量和軌跡。隨著工
靜電卡盤高壓電源多介質層耐壓設計的關鍵技術挑戰與創新方向
在半導體制造、新能源及醫療設備等高端領域，靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）是實現高精度工藝的核心部件。其高壓電源系統需在真空
電鏡高壓電源飛秒級脈沖調制技術：突破微觀成像的時空界限
電子顯微鏡（電鏡）作為探索物質微觀結構的核心工具，其分辨率與成像質量高度依賴高壓電源的穩定性和精度。傳統電鏡高壓電源雖能提供穩定的
光刻機高壓電源的超高頻諧振穩壓技術
在半導體制造領域，光刻機作為納米級圖案刻蝕的核心設備，其精度直接決定芯片性能與良品率。光刻機的高壓電源系統需為激光發生器、離子束控