技術資源
曝光機高壓電源能效提升方案
在微電子、光伏及印刷電路板制造領域，曝光機是實現精密圖形轉移的核心設備，其高壓電源系統（通常工作于數十千伏范圍）的能效直接影響生產
電子束曝光機高壓電源穩壓技術及應用
電子束曝光機作為納米級圖形加工的核心裝備，其制版精度直接取決于高壓電源的穩定性。高壓電源為電子槍提供加速電壓（通常為20–30 k
高壓電源量子噪聲抑制技術及其在電鏡領域的應用
電子顯微鏡（電鏡）的分辨率與成像質量高度依賴高壓電源的穩定性。高壓電源為電鏡的電子槍提供加速電壓（通常達數十至數百千伏），其輸出噪
高精度蝕刻設備中高壓電源動態匹配網絡的技術演進與應用
在半導體制造領域，蝕刻設備的性能直接決定了芯片結構的精度與良率。隨著制程節點向5nm以下演進，晶圓尺寸增至12英寸，蝕刻工藝對高壓電源
準分子激光高壓電源的脈沖能量反饋控制技術
準分子激光器（如ArF、KrF、XeCl等）作為深紫外波段的高功率脈沖光源，在半導體光刻、醫療美容、微納加工等領域具有不可替代的地位。其核心
光刻機高壓電源多物理場協同仿真技術研究
在半導體制造領域，光刻機的精度直接決定芯片的制程水平。高壓電源作為光刻機的核心子系統，為電子束偏轉系統、離子光學單元及精密伺服機構
離子注入高壓電源能量利用率優化路徑探析
離子注入技術作為半導體制造、材料改性的核心工藝，其能量利用率直接影響制造成本與設備性能。高壓電源作為離子注入系統的心臟，為離子加速
高壓電源在蝕刻設備中的工藝氣體適配技術
在半導體干法刻蝕工藝中，工藝氣體的化學特性與高壓電源的能量調控能力共同決定了刻蝕精度與效率。工藝氣體通過電離生成活性基團（如自由基
準分子激光高壓電源放電穩定性建模研究
準分子激光器作為半導體光刻、醫療等領域的關鍵光源，其輸出穩定性直接取決于高壓電源放電過程的精確控制。放電穩定性建模涉及氣體動力學、