技術資源
電子束高壓電源抗沖擊設計要點
電子束技術在材料表面改性、食品低溫殺菌、半導體光刻等領域的應用日益廣泛，其核心動力源——電子束高壓電源，需在高電壓（通常千伏至兆伏
曝光機高壓電源負載均衡技術的應用與工藝價值
在半導體光刻制程中，曝光機作為核心設備，其成像精度直接決定芯片線寬與性能，而高壓電源作為曝光機光源系統（如深紫外光源、極紫外光源）
電子束高壓電源智能監控系統的應用與技術價值
在電子束技術快速滲透材料改性、醫療滅菌、精密焊接等領域的背景下，作為核心動力源的高壓電源，其運行穩定性與可控性直接決定工藝效果與設
光刻機高壓電源抗輻射屏蔽結構設計與應用
在半導體納米級制程制造中，光刻機作為核心設備，其運行精度直接決定芯片良率。高壓電源作為光刻機的關鍵動力單元，負責為激光系統、靜電吸
離子注入高壓電源脈沖序列優化的技術路徑與應用價值
在半導體制造的摻雜工藝中，離子注入技術通過將特定離子精確注入晶圓表層，構建器件的電學特性區域，是決定芯片性能與良率的核心環節。高壓
靜電卡盤高壓電源表面微放電檢測的技術原理與應用價值
在半導體先進制程制造中，靜電卡盤（ESC）作為晶圓精準夾持與溫度控制的核心組件，其性能穩定性直接決定晶圓加工良率。靜電卡盤的夾持力依
電鏡高壓電源的皮安級電流穩定性：技術核心與應用價值
在微觀表征領域，電子顯微鏡（簡稱電鏡）憑借納米乃至原子級分辨率，成為材料科學、生命科學、半導體工業等領域的核心工具。電鏡性能不僅依
蝕刻設備高壓電源動態功率調節技術應用
精確控制能量輸出，實現微觀世界的雕刻藝術。在半導體制造和精密加工領域，蝕刻工藝是決定器件性能與良率的關鍵環節。而高壓電源作為蝕刻設
曝光機高壓電源低功耗方案探索
在半導體制造、印刷電路板（PCB）及平板顯示等行業中，曝光機是關鍵設備，其核心光源——如超高壓汞燈——需要穩定可靠的高壓電源進行驅動