技術資源
電鏡高壓電源在原子級表面電荷中和中的應用
作為微觀世界表征的核心工具，電子顯微鏡（電鏡）已從微米級分辨率邁入原子級觀測時代，而樣品表面電荷的累積與失衡，成為制約高分辨成像精
曝光機高壓電源噪聲溯源與控制
在精密光刻制造體系中，曝光機作為核心設備，其成像精度直接決定芯片制程的最終良率，而高壓電源（HVPS）作為曝光機光源模塊的能量核心，其
電子束高壓電源模塊化維護策略
電子束技術憑借能量集中、作用精準的特性，已廣泛應用于材料表面改性、食品殺菌消毒、半導體器件制造等領域，而高壓電源作為電子束發生系統
曝光機高壓電源的寬溫域適應性設計與應用價值
在半導體制造及精密電子加工領域，曝光機是實現圖形轉移的核心設備，其工作精度直接決定了產品的線寬與性能。而高壓電源作為曝光機光學系統
電子束高壓電源故障預警系統的技術架構與應用價值
電子束技術在工業輻照、半導體離子注入、材料改性等領域的深度應用，使其核心動力源——電子束高壓電源的穩定運行成為生產連續性與工藝精度
曝光機高壓電源集成化設計思路
在半導體制造領域，曝光機作為關鍵設備，其性能直接決定芯片的精度與良率，而高壓電源作為曝光機光學系統與驅動模塊的核心能量供給單元，其
光刻機高壓電源的超導儲能脈沖供電技術應用分析
在半導體制造領域，光刻機作為先進制程突破的核心設備，其曝光系統對供電的精準度、響應速度及穩定性提出了苛刻要求。尤其是7nm以下制程中
離子注入高壓電源智能故障自愈系統的應用價值與技術實踐
在半導體制造的核心工藝鏈條中，離子注入技術是實現晶圓精準摻雜的關鍵環節，而高壓電源作為該技術的能量核心，其運行穩定性直接決定摻雜濃
靜電卡盤高壓電源多物理場協同控制
在半導體3nm及以下先進制程的晶圓加工中，靜電卡盤（ESC）是實現晶圓高精度定位與穩定夾持的核心部件，其性能直接取決于高壓電源（HVPS）的