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濺射_半導體

濺射

濺射就是一種利用帶電粒子轟擊靶材,使靶材表面的原子或分子逸出,并沉積在基底上形成薄膜的過程。該技術廣泛應用于半導體制造、磁盤鍍膜、建筑玻璃鍍膜等領域。直流濺射??,主要用于濺射??金屬靶材??(如金、銀、銅、鋁、鈦等)和??一些導電性較好的合金靶材??。反應濺射,通入反應氣體(如氧氣、氮氣),靶材原子與氣體分子發生化學反應生成化合物薄膜(如氧化鋁、氮化鈦)常用于??導電性較差的靶材??。