半導體刻蝕機

高穩定性、高精度、低紋波、響應速度快

半導體刻蝕機是芯片制造（半導體制造）核心工藝設備之一，與光刻機、薄膜沉積設備并稱為前道工藝的“三大件”。
它的核心作用可以通俗地理解為“微觀世界的雕刻刀”。在芯片制造過程中，經過光刻機將電路圖案曝光在涂有光刻膠的硅片上后，刻蝕機的任務就是按照這個圖案，精確地去除沒有被光刻膠保護的薄膜層，從而在硅片上的薄膜上復制出所需的電路圖形?？涛g工藝主要分為兩大類：濕法刻蝕和干法刻蝕?，F代先進芯片制造主要依賴干法刻蝕，尤其是等離子體刻蝕技術，對工藝控制精度、穩定性和重復性提出了極高要求。在此過程中，高壓電源作為刻蝕系統的核心動力源，其性能直接決定了等離子體的生成質量與過程穩定性——正如汽車中的發動機與變速箱，掌控著整臺設備的“動力輸出”與“響應節奏”。我司專注于高壓電源研發與制造，產品具備高穩定性、高精度、低紋波、響應速度快等核心優勢，特別適用于高要求的半導體刻蝕場景。