技術資源
光刻機電源數字化管理方案探索
光刻機電源的數字化管理方案探索，是提升光刻產線智能化水平、降低運維成本和實現工藝閉環控制的必然要求。數字化管理不再將電源視為一個獨
高壓電源在光刻工藝中的應用價值
高壓電源在光刻工藝中的應用價值，體現在它對工藝窗口、良率和新型技術路徑的深遠影響。它并非一個簡單的功能性組件，而是光刻工藝精密執行
光刻設備電源智能控制新趨勢
隨著半導體制造進入智能化時代，光刻設備電源的控制也正從傳統的PID（比例-積分-微分）或模擬控制向基于人工智能和數字孿生的智能控制轉變
高壓供電技術保障光刻曝光精度
光刻曝光精度是決定芯片制程節點和良率的最終指標，高壓供電技術在保障這一精度方面扮演著不可替代的角色。高壓電源不僅是能量的提供者，更
光刻機電源節能與可靠性提升
光刻機電源的節能和可靠性提升是半導體產線運營成本控制和持續高稼動率的關鍵雙重目標。在先進光刻制程中，電源系統消耗了光刻機總電能的很
精密穩壓電源提升檢測設備效率
在半導體、醫療成像、科學分析等高技術領域，各類檢測設備（如電子顯微鏡、光譜儀、X射線檢測系統、晶圓缺陷檢測儀）的性能，往往與其核心
高壓電源在晶圓封測設備的創新應用
晶圓封測（Wafer Probing and Packaging Testing）是半導體制造的后道關鍵工序，旨在確保芯片的功能性和可靠性。隨著先進封裝技術（如3D
EUV產線高壓供電可靠性優化
極紫外光刻（EUVL）是推動摩爾定律延續的關鍵技術，它使用波長為$13 5 text{nm}$的光源。EUV光刻機的核心挑戰之一是其極度復雜的激光驅動
晶圓檢測環節電源精準控制技術
晶圓檢測是半導體制造中質量控制的關鍵環節，貫穿于前道（Front-End-of-Line, FEOL）和后道（Back-End-of-Line, BEOL）工藝。高壓電源在